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微米級光學薄膜測厚儀

簡要描述:品牌:希臘ThetaMetrisis
名詞:膜厚儀 膜厚儀、測厚儀、干涉儀、厚度測量儀
干涉儀是利用干涉原理測量光程之差從而測定有關(guān)物理量的光學儀器。兩束相干光間光程差的任何變化會非常靈敏地導致干涉條紋的移動,而某一束相干光的光程變化是由它所通過的幾何路程或介質(zhì)折射率的變化引起,所以通過干涉條紋的移動變化可測量幾何長度或折射率的微小改變量,從而測得與此有關(guān)的其他物理量。測量精度決定于測量光程差的精

  • 產(chǎn)品型號:FR-uProbe
  • 廠商性質(zhì):代理商
  • 更新時間:2024-05-16
  • 訪  問  量:2199

詳細介紹

FR-uProbe是涂層表征應(yīng)用的解決方案,要求光斑尺寸小*小微米,例如微圖案表面,具有不規(guī)則表面的樣品,其表現(xiàn)出高水平的散射光和許多其它。使用FR-uProbe,在UV / Vis / NIR上的局部薄膜厚度,光學常數(shù),反射率,透射率和吸光度測量只需點擊即可。

 

FR-uProbe簡單地連接到大多數(shù)商用光學顯微鏡的C接口適配器,并提供:

o實時光譜測量

o薄膜厚度,光學性能,非均勻性測量

o使用集成的USB連接和高質(zhì)量彩色相機進行成像

o顯微鏡本身的性能不受影響

工作原理

白光反射光譜(WLRS)測量在一定波長范圍內(nèi)從薄膜或多層疊堆反射的光量,入射光垂直于(垂直于)樣品表面。

通過來自界面的干涉產(chǎn)生的測量的反射光譜用于確定自支撐和支撐(在透明或部分/全反射基板上)薄膜堆疊的厚度,光學常數(shù)(nk)等。

 

應(yīng)用

o大學和研究實驗室

o半導體(氧化物,氮化物,硅,抗蝕劑等)

o MEMS器件(光刻膠,硅膜等)

o LED

o數(shù)據(jù)存儲

o陽極氧化

o彎曲基板上的硬/軟涂層

o聚合物涂料,粘合劑等

o生物醫(yī)學(聚對二甲苯,氣球壁厚等)

 

特征

o   單擊分析(無需初始猜

o   動態(tài)測

o   集成USB

o   保存視頻進行演示

o    350+不相同的材料

o    3年免費軟件更新

o   Windows 7/8/10上運行

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