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  • UNIXX-SERIES德國osiris顯影機:DEVELOPER

    德國osiris顯影機:DEVELOPER,設(shè)計用于:顯影、清潔和干燥。晶圓顯影機在半導(dǎo)體制造和微納加工領(lǐng)域起著至關(guān)重要的作用,幫助實現(xiàn)微電子元件的精密制造和微米級結(jié)構(gòu)的加工。

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    產(chǎn)品價格:面議
    廠商性質(zhì):代理商
    更新日期:2024-05-17
  • UNIXX S 30 D顯影機

    UNIXX S 30 D 顯影機是應(yīng)用于顯影工藝的設(shè)備,適用的基板尺寸為2英寸到12英寸的 圓片和最大到9英寸x9英寸的方片。新設(shè)計的三片式可拆卸工藝腔體可實現(xiàn)良好的工藝 均勻性和重復(fù)性,設(shè)備也可用于清洗和旋干工藝。 UNIXX S 30 D的落地式柜體經(jīng)專門設(shè)計,方便操作和維修。它是一款手動顯影機,適 用于實驗室開展科學(xué)研究和技術(shù)開發(fā)。設(shè)備具有多選項(例如可編程流體輸送臂)并且 可以升級成自動化

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    廠商性質(zhì):代理商
    更新日期:2024-05-17
  • UNIXX S 20 D顯影機

    UNIXX S 20 D 顯影機是應(yīng)用于顯影工藝的設(shè)備,適用的基板尺寸最大到8英寸的圓片 和最大到6英寸x6英寸的方片。新設(shè)計的三片式可拆卸工藝腔體可實現(xiàn)良好的工藝均勻 性和重復(fù)性,設(shè)備也可用于清洗和旋干工藝。 UNIXX S 20 D的落地式柜體經(jīng)專門設(shè)計,方便操作和維修。它是一款手動顯影機,適 用于實驗室開展科學(xué)研究和技術(shù)開發(fā)。設(shè)備具有多選項(例如可編程流體輸送臂)并且 可以升級成自動化的系統(tǒng)

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    更新日期:2024-05-17
  • LCS半自動旋涂顯影刻蝕機

    LCS專為晶圓和平面基片的半自動旋涂和開發(fā)而設(shè)計,將是試點項目、研究所和研發(fā)的*。 它保證了高均勻性和可重復(fù)性以及簡單的操作和維護。 它可以處理最大 150 毫米的晶圓或最大 125x125 毫米的方形基片。

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  • SCS112/SCSe124/SCSe126濕法顯影掩膜版清洗系統(tǒng)

    SCS112型是一款高效率手動型的濕法顯影掩膜版清洗系統(tǒng),專門設(shè)計用于在劃片或劃片后清洗晶片,針對8英寸晶圓片。SCSe124/126型是用于光掩模,晶圓和基材的亞微米級清潔的理想解決方案,針對10英寸晶圓片。

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  • CESx124UltraT進口濕法刻蝕和剝離系統(tǒng)

    UltraT進口濕法刻蝕和剝離系統(tǒng)專為滿足當(dāng)今晶圓、光掩模和基板的前沿應(yīng)用的特殊工藝需求而設(shè)計。這款高效的蝕刻和清潔系統(tǒng)CESx124、126、128或133是理想選擇,可滿足不同大小尺寸的晶片、光掩模和襯底,不論是從小直徑還是非常大直徑。

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