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促進MicroChem光刻膠研究開發(fā)和應用

更新時間:2018-08-21      點擊次數(shù):1922
   促進MicroChem光刻膠研究開發(fā)和應用
  
  MicroChem光刻膠是芯片制造過程中的關鍵材料,芯片制造要根據(jù)具體的版圖(物理設計,layout)設計出掩模板,然后通過光刻(光線通過掩模板,利用光刻膠對裸片襯底等產(chǎn)生影響)形成一層層的結構,后形成3D立體電路結構,從而產(chǎn)生Die(裸片)。工藝的發(fā)展,光刻機的發(fā)展,材料學的同步發(fā)展才能促進摩爾定律的發(fā)展。
  
  MicroChem光刻膠是微電子技術中微細圖形加工的關鍵材料之一,特別是近年來大規(guī)模和超大規(guī)模集成電路的發(fā)展,更是大大促進了光刻膠的研究開發(fā)和應用。印刷工業(yè)是光刻膠應用的另一重要領域。
  
  MicroChem光刻膠的技術復雜,品類較多,根據(jù)其化學反應機理可分負性膠和正性膠兩類。光照后形成不可溶物質的是負性膠;反之,對某些溶劑是不可溶的,經(jīng)光照后變成可溶物質的即為正性膠。利用這種性能,將光刻膠做涂層,就能在硅片表面刻蝕所需的電路圖形。
  
  MicroChem光刻膠參數(shù)主要包括以下幾種:
  
  1)分辨率,用關鍵尺寸(摩爾定律)來衡量分辨率;
  
  2)對比度,光刻膠從曝光區(qū)到非曝光區(qū)過度的陡度,會對芯片制造良率產(chǎn)生影響;
  
  3)粘滯性粘度,衡量光刻膠流動特性的參數(shù);
  
  4)敏感度,產(chǎn)生一個良好的圖形所需一定波長光的小能量值(小曝光量);
  
  5)粘附性,粘附于襯底的強度;
  
  6)抗蝕性,光刻膠要保持粘附在襯底上并在后續(xù)刻蝕工序中保護襯底表面;
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