NXQ8000系列掩膜曝光機機械手機構(gòu)曝光系統(tǒng)
　　
　　NXQ8000系列掩膜曝光機對準工作臺：
　　
　　高精度薄型精密雙層三維對準工作臺，采用交叉滾柱V形導軌副和θ向超薄軸承及中心滑塊結(jié)構(gòu)，保證了工作臺的直線性和旋轉(zhuǎn)精度。
　　
　　NXQ8000系列掩膜曝光機機械手機構(gòu)：
　　
　　機械手采用直線導軌和滾珠絲杠結(jié)構(gòu)，具有高的定位精度和重復精度。
　　
　　NXQ8000系列掩膜曝光機上版架系統(tǒng)：
　　
　　上掩模版的升降導軌選用THK可調(diào)分離型直線導軌，驅(qū)動采用高分辨率的數(shù)顯微分頭，從而保證兩掩模版的重復精度和定位精度。
　　
　　NXQ8000系列掩膜曝光機對準觀察系統(tǒng):
　　
　　雙光路結(jié)構(gòu)的臥式分離視場顯微鏡，可以獲取高清晰的圖像同時兼容CCD成像液晶顯示功能
　　
　　NXQ8000系列掩膜曝光機電氣控制系統(tǒng)：
　　
　　整機采用PLC+觸摸屏控制，提供運行狀態(tài)顯示及多種檢測功能，易于操作，控制精度高，性能穩(wěn)定。
　　
　　NXQ8000系列掩膜曝光機曝光系統(tǒng)：
　　
　　上、下兩套獨立的紫外光曝光系統(tǒng)，采用*結(jié)構(gòu)方案，具有較高的光強、均勻性、光學分辨率。