亚洲一区二区三区欧美精品-日韩欧美精品在线中文字幕-成人精品亚洲一区二区三区-国产大片中文字幕资源

光刻膠的顯影和光刻工藝今天小編要跟大家簡要介紹關(guān)于光刻膠的顯影過程和光刻工藝處理的一些相關(guān)內(nèi)容。光刻工藝可用五個指標(biāo)來衡量其效果：分辨率、靈敏度、套刻對準(zhǔn)精度、缺陷率和硅片加工過程處理問題，其中有3個指標(biāo)，分辨率、靈敏度和缺陷率是與涂膠顯影的工藝精度有重要。顯影過程是將曝光后的光刻膠中與紫外光發(fā)生化學(xué)反應(yīng)的部分除去或保留下來的過程。顯影的主要過程如下：對準(zhǔn)曝光→曝光后烘→顯影→堅(jiān)膜→顯影檢測。1對準(zhǔn)曝光（AlignmentａndExposure）對準(zhǔn)曝光階段是光刻工藝的重要階...

目前，MEMS發(fā)展迅速，已廣泛應(yīng)用于醫(yī)療、軍事、航空、航天、汽車工業(yè)等領(lǐng)域。MEMS種類繁多，如MEMS傳感器、MEMS執(zhí)行器和光MEMS等，而各種薄膜在MEMS制造加工工藝中充當(dāng)了重要角色。根據(jù)MEMS加工工藝需要，往往需要制作各種不同厚度的薄膜，薄膜厚度對工藝、后成型的器件性質(zhì)有至關(guān)重要的影響。隨著薄膜厚度的變化其性質(zhì)往往也出現(xiàn)不同，精確測量各種功能薄膜的厚度值在MEMS制造加工領(lǐng)域有非常重要的意義。下面小編來介紹幾種測量薄膜厚度的方法研究和對比：01接觸式表面輪廓儀利用...

單模波導(dǎo)樹脂ZPU12,13-RI和LFR系列光活性UV可固化樹脂基于全氟丙烯酸酯。它們設(shè)計(jì)用于光波導(dǎo)器件和光通信中使用的光學(xué)薄膜的應(yīng)用。這些涂料樹脂具有優(yōu)異的特性，例如低光學(xué)損失，低雙折射和優(yōu)異的環(huán)境穩(wěn)定性。通過與標(biāo)準(zhǔn)聚合物溶液共混以滿足各種波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的使用需求，可以輕松實(shí)現(xiàn)對折射率的精確和連續(xù)控制。為了獲得最佳的薄膜質(zhì)量，應(yīng)在紫外線照射期間建議使用氮?dú)猸h(huán)境。產(chǎn)品規(guī)格型號-ExguideLFR-RI系列-ExguideZPU12,13-RI系列特征-UV固化型-低光損耗-環(huán)...

背景技術(shù)在各類光學(xué)有關(guān)的檢測中經(jīng)常需要在兩個光學(xué)器件之間添加折射率匹配液以消除結(jié)合處界面對光學(xué)性能帶來的影響。以光通信領(lǐng)域?yàn)槔晡覈鴮拵Ы尤牒凸饫w到戶的發(fā)展使平面光波導(dǎo)芯片產(chǎn)品的需求量猛增。平面光波導(dǎo)就是在晶圓平面上利用不同物質(zhì)的光折射率制造出光波傳導(dǎo)通路，并完成過去由多個單一光器件才能實(shí)現(xiàn)的特定光通信功能的技術(shù)。測試平面光波導(dǎo)芯片時，會將芯片與其他光學(xué)器件如光纖、光纖陣列等連接起來，為了避免光在這些連接點(diǎn)位置出現(xiàn)強(qiáng)度、偏振態(tài)變化等光學(xué)性質(zhì)的變化，通常會在這些連接點(diǎn)之間點(diǎn)...

鋰離子動力電池在制作過程中，壓實(shí)密度對電池性能有較大的影響。通過實(shí)驗(yàn)證明，壓實(shí)密度與片比容量，效率，內(nèi)阻，以及電池循環(huán)性能有密切的關(guān)系。找出*佳壓實(shí)密度對電池設(shè)計(jì)很重要。一般來說，壓實(shí)密度越大，電池的容量就能做的越高，所以壓實(shí)密度也被看做材料能量密度的參考指標(biāo)之一。壓實(shí)密度不光和顆粒的大小、密度有關(guān)系，還和粒子的級配有關(guān)系，壓實(shí)密度大的一般都有很好的粒子正態(tài)分布?？梢哉J(rèn)為，工藝條件一定的條件下，壓實(shí)密度越大，電池的容量越高。合適的正極壓實(shí)密度可以增大電池的放電容量，減小內(nèi)阻，...

Dake壓片機(jī)分為單沖壓片機(jī)和旋轉(zhuǎn)式壓片機(jī)是兩種常見的壓片設(shè)備。單沖壓片機(jī)由于價(jià)格低廉、操作方便、結(jié)構(gòu)簡單受到了實(shí)驗(yàn)室、研究所、大專院校等研究人員的歡迎，然而由于單沖壓片機(jī)存在諸多的不足，最終導(dǎo)致實(shí)驗(yàn)室獲得的結(jié)果與車間實(shí)際使用的旋轉(zhuǎn)式壓片機(jī)壓制的結(jié)果差異很大，無法將實(shí)驗(yàn)室的試驗(yàn)數(shù)據(jù)直接復(fù)制用于實(shí)踐生產(chǎn)。Dake壓片機(jī)的使用注意事項(xiàng)：1、機(jī)器設(shè)備上的防護(hù)罩、安全蓋等的裝置不要拆除,使用時應(yīng)裝妥。2、沖模需經(jīng)嚴(yán)格探傷試驗(yàn)和外形檢查,要無裂縫、變形、缺邊,硬度適宜和尺碼準(zhǔn)確的,如不...

NXQ4006光刻機(jī)（lithography）又名：掩模對準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精細(xì)圖形通過光線的曝光印制到硅片上。通俗易懂的說，光刻機(jī)就是在制造芯片時*的工具，沒有光刻機(jī)就沒有芯片。NXQ4006光刻機(jī)工作過程詳細(xì)介紹1.打開NXQ4006光刻機(jī)電源開關(guān)，（右表板上標(biāo)有“電源”字的開關(guān)），燈亮，氣壓表顯示數(shù)值。此時檢查左表板上的“系統(tǒng)真空”表，看是否保持真空度≥-0.07MPa以上，否則要檢查漏氣原因并消...