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如何選擇紫外臭氧清洗機(jī)？今天的主角是我們的一款簡易的紫外臭氧清洗機(jī)。來自其他制造商的紫外臭氧清潔機(jī)可以提供一系列附加功能。更多的功能常常會被誤認(rèn)為是更有效的性能。但是，在您的實(shí)驗設(shè)置中評估附加功能的必要性和適用性總是很重要的。我們這款紫外臭氧清潔機(jī)本著簡單高效的理念構(gòu)建，提供了一個有效工作的模型，沒有不必要的、復(fù)雜的或令人困惑的特性。1.加熱功能超過150°C，材料的溫度越高，紫外臭氧清洗的反應(yīng)速度越快。因此，提高襯底的溫度可以促進(jìn)更快的清洗速率。為此，一些系統(tǒng)將可加熱的樣品...

氮化硼封裝對2D半導(dǎo)體層等離子體處理的影響（下）結(jié)果和討論在樣品制備、器件制造和后處理過程中，2D材料或異質(zhì)結(jié)構(gòu)可能會遇到幾種形式的高能輻射源。使用的輻射源包括電子、離子(氬、氦和氙)和光子(激光、紫外線)通量。然而，離子束和紫外光分別是蝕刻和光刻工藝中最CY的。在這里，我們研究了h-BN，MoS2及其異質(zhì)結(jié)構(gòu)在Ar+離子等離子體下曝光。氬離子等離子體是最CY的，因為氬由于其固有的惰性不會與樣品形成化學(xué)鍵。氬也是一種足夠重的離子，可以提供足夠的動能以在合理的加速電壓下蝕刻樣品...

二維(2D)過渡金屬二硫族化合物(TMDCs)在光學(xué)、電子學(xué)、催化和能量存儲方面的應(yīng)用是研究的熱點(diǎn)。當(dāng)封裝在沒有電荷無序的環(huán)境中時，它們的光學(xué)和電子性質(zhì)可以顯著增強(qiáng)。因為六方氮化硼(h-BN)是原子級薄的、高度結(jié)晶的并且是強(qiáng)絕緣體，所以它是封裝和鈍化TMDCs常用的2D材料之一。在這份報告中，我們研究了超薄氮化硼如何屏蔽底層金屬氧化物半導(dǎo)體在半導(dǎo)體器件制造和后處理過程中通常使用的高能氬等離子體的TMDCs層。像差校正的掃描透射電子顯微鏡用于分析h-BN和MoS2中的缺陷形成這...

石墨烯通常通過化學(xué)氣相沉積（CVD）在生長基底上沉積，然后轉(zhuǎn)移到適合其特定應(yīng)用的目標(biāo)基底上。等離子體處理可用于支持和促進(jìn)各種石墨烯轉(zhuǎn)移方法。介紹石墨烯是一種具有六方晶體結(jié)構(gòu)的單原子碳層，由于其許多DT的材料特性，在過去幾十年中受到了廣泛的研究。憑借其高導(dǎo)電性和導(dǎo)熱性、近乎光學(xué)的透明度和高機(jī)械強(qiáng)度，石墨烯被認(rèn)為是一種非常通用的二維材料，可用于廣泛的應(yīng)用，包括能源儲存、光學(xué)顯示和傳感器[1-3]。生產(chǎn)石墨烯的常見方法是CVD，使用碳?xì)浠衔餁怏w或含碳前體與催化襯底（如銅銅箔）結(jié)合...

氧化鋅（ZnO）是一種令人興奮的可替代寬帶隙半導(dǎo)體，在傳感器和柔性電子器件中具有廣闊的應(yīng)用前景。等離子體處理可用于為氧化鋅沉積準(zhǔn)備表面，通過去除有機(jī)雜質(zhì)和表面改性改善電性能，并促進(jìn)氧化鋅器件的制造。介紹氧化鋅是一種寬帶隙半導(dǎo)體，具有與氮化鎵（GaNIII-V）半導(dǎo)體相似的電氣和物理特性。由于鋅含量相對豐富且能夠在低溫下沉積氧化鋅，因此氧化鋅作為氮化鎵的低成本替代品更具有吸引力，可用于發(fā)光二極管(LED)、光電子學(xué)和柔性電子學(xué)。此外，氧化鋅在可見光譜中是光學(xué)透明的，通過適當(dāng)?shù)膿?..

等離子清洗機(jī)常用的工藝氣體有氧氣、氬氣、氮?dú)?、壓縮空氣、二氧化碳、氫氣、四氟化碳等。它是將氣體電離產(chǎn)生等離子體對工件進(jìn)行表面處理,無論是進(jìn)行清洗還是表面活化,為達(dá)到Z佳的處理效果會選用不同的工藝氣體,那么等離子清洗機(jī)的常用工藝氣體又該如何選擇呢?01氧氣氧氣是等離子清洗常用的活性氣體,屬于物理+化學(xué)的處理方式,電離后產(chǎn)生的離子體能夠?qū)Ρ砻孢M(jìn)行物理轟擊,形成粗糙表面。同時高活性的氧離子能夠與被斷鍵后的分子鏈發(fā)生化學(xué)反應(yīng)形成活性基團(tuán)的親水表面,達(dá)到表面活化的目的;被斷鍵后的有機(jī)污...

紫外線臭氧如何清潔樣品？紫外線臭氧清潔是一種光敏氧化過程，其中處于激發(fā)態(tài)的有機(jī)分子與臭氧分子發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，導(dǎo)致鍵斷裂和分子從表面解離。該方法利用高強(qiáng)度紫外光源，該紫外光源在185納米和254納米處具有兩個主要發(fā)射峰。這兩種波長負(fù)責(zé)不同的過程，最終導(dǎo)致表面的清潔。低于200納米的輻射被分子氧強(qiáng)烈吸收。吸收的光子的能量足以打破氧-氧雙鍵，導(dǎo)致氧(O)的兩個自由基的形成。這些自由基隨后可以與分子氧反應(yīng)，產(chǎn)生臭氧分子(O3).254nm的紫外輻射容易被存在于許多基底表面上的有機(jī)物質(zhì)吸...