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目前，越來(lái)越多的原子力顯微鏡被引入到各項(xiàng)研究中，但是相信很多科研人員會(huì)發(fā)現(xiàn)，做了幾次樣品后，針尖或者懸臂梁總會(huì)有東西粘附上去了，圖像質(zhì)量和原來(lái)的形貌出入太大，沒(méi)有多少細(xì)節(jié)，甚至出現(xiàn)雙針尖現(xiàn)象，這個(gè)時(shí)候，被污染的針尖已經(jīng)嚴(yán)重影響到實(shí)驗(yàn)。而AFM探針針尖應(yīng)該怎樣清洗才合適呢，這個(gè)問(wèn)題一直困擾著科研人員。粒子探針一般采用的是紫外臭氧清洗技術(shù)來(lái)清洗有機(jī)物，紫外臭氧技術(shù)*是光子輸出，對(duì)探針表面不會(huì)造成任何損傷，是一種溫和的清洗方法。PSD和PSDP系列紫外臭氧系統(tǒng)通過(guò)產(chǎn)生185nm和2...

鈣鈦礦廣泛用于太陽(yáng)能電池的開(kāi)發(fā)。由于這些類型的太陽(yáng)能電池具有良好的光伏性能，因此對(duì)它們進(jìn)行了系統(tǒng)的研究。鈣鈦礦薄膜的厚度和形態(tài)是影響太陽(yáng)能電池性能的重要因素。人們發(fā)現(xiàn)，特別當(dāng)鈣鈦礦的厚度小于400nm時(shí)，鈣鈦礦太陽(yáng)能電池的效率很大程度上取決于薄膜厚度；而當(dāng)鈣鈦礦的厚度大于400nm時(shí)，效率則很大程度上取決于鈣鈦礦層的薄膜形態(tài)。在本篇方案說(shuō)明中，我們使用FR-pRoVIS/NIR測(cè)量鈣鈦礦薄膜的厚度。FR-pRoVIS/NIR測(cè)量方法：用于表征的樣品是兩種不同厚度的CH3NH3...

應(yīng)用領(lǐng)域Harrick等離子清洗機(jī)應(yīng)用領(lǐng)域廣泛，包括材料科學(xué)，聚合物科學(xué)，生物醫(yī)學(xué)，微流體技術(shù)，鈣鈦礦太陽(yáng)能電池制備，光學(xué)器件，顯微鏡，牙科以及其他醫(yī)學(xué)研究等。離子表面改性表面改性的好處通過(guò)等離子處理來(lái)附著或吸附官能團(tuán)用以處理表面，改變特定應(yīng)用的表面性能。根據(jù)所使用的工藝氣體來(lái)定制引入官能團(tuán)，然后可以使用適當(dāng)?shù)臍怏w將表面潤(rùn)濕性更改為親水性或疏水性。潤(rùn)濕性的提高，通過(guò)改善表面的覆蓋范圍和涂層的延展性以及增強(qiáng)兩個(gè)表面之間的附著力，為后續(xù)處理（例如膜的沉積或分子吸附）做好準(zhǔn)備。等離...

EDC濕法顯影刻蝕系統(tǒng)光刻膠顯影（KrF/ArF）SU8厚膠顯影顯影后清洗PostCMP清洗光刻膠去除金屬Lift-off處理刻蝕微刻蝕處理新一代的旋轉(zhuǎn)噴淋式濕法處理機(jī)臺(tái)，不僅jinque控制試劑注射，還能夠大大節(jié)約試劑，綠色環(huán)保的濕法處理方案。頂蓋閥門控制技術(shù)顯影液注射頭的位置我們采用dujia的VoD頂蓋閥門控制技術(shù)，確保在基片中心位置垂直向下噴射，確保樣片表面的試劑受力均勻性。VS其他廠商提供的噴射裝置參考如下圖，是從圓弧頂蓋的不同角度傾斜噴射時(shí)，樣片收集到的試劑量不均...

據(jù)第三方機(jī)構(gòu)智研咨詢統(tǒng)計(jì)，至2022年quanqiu光刻膠市場(chǎng)規(guī)模將超過(guò)100億美元。光刻膠按應(yīng)用領(lǐng)域分類，可分為PCB光刻膠、顯示面板光刻膠、半導(dǎo)體光刻膠及其他光刻膠。quanqiu市場(chǎng)上不同種類光刻膠的市場(chǎng)結(jié)構(gòu)較為均衡，具體占比可以如下圖所示。據(jù)智研咨詢的數(shù)據(jù)顯示，受益于半導(dǎo)體、顯示面板、PCB產(chǎn)業(yè)東移的趨勢(shì)，2019年中國(guó)光刻膠市場(chǎng)本土企業(yè)銷售規(guī)模約70億元，quanqiu占比約10%，發(fā)展空間巨大。目前，中國(guó)本土光刻膠以PCB用光刻膠為主，平板顯示、半導(dǎo)體用光刻膠供應(yīng)...

等離子去膠機(jī)是我們?cè)谖⒉ǖ入x子處理工藝中的新產(chǎn)品。該批次式晶圓灰化設(shè)備成本低廉、尺寸適中，特別適用于工廠、科研院所等領(lǐng)域。等離子去膠機(jī)操作規(guī)程：1、自動(dòng)切割小車應(yīng)經(jīng)空車運(yùn)轉(zhuǎn)，并選定切割速度；2、使用釷、鎢電極應(yīng)符合JGJ33-2001第12.7.8條規(guī)定；3、高頻發(fā)生器應(yīng)設(shè)有屏蔽護(hù)罩，用高頻引弧后，應(yīng)立即切斷高頻電路；4、應(yīng)檢查并確認(rèn)電源、氣源、水源無(wú)漏電、漏氣、漏水，接地或接零安全可靠；5、操作人員應(yīng)站在上風(fēng)處操作?？蓮墓ぷ髋_(tái)下部抽風(fēng)，并宜縮小操作臺(tái)上的敞開(kāi)面積；6、小車、...

等離子刻蝕機(jī)一般應(yīng)用于半導(dǎo)體加工領(lǐng)域，而等離子清洗機(jī)則一般應(yīng)用于材料領(lǐng)域。等離子清洗處理可改變材料的表面化學(xué)。因此能改變材料的表面性質(zhì)。例如，大氣或是氧氣等離子常用在聚合物(例如聚苯乙烯,聚乙烯)表面產(chǎn)生羥基。通常表面從疏水性(高水接觸角)改變至親水性（水接觸角小于30度），并增加表面潤(rùn)濕性能。等離子處理也能改變其它材料的表面化學(xué)（表面性質(zhì)），如硅、不銹鋼及玻璃。用低溫等離子體在適宜的工藝條件下處理PE、PP、PVF2、LDPE等材料，材料的表面形態(tài)發(fā)生顯著的變化，引入了多種...