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12-24
紫外固化機(jī)的使用方法:1.該產(chǎn)品對(duì)光敏感。在儲(chǔ)存和操作過(guò)程中,有必要控制對(duì)各種光源的照射,例如日光,紫外線和其他人造光源;2.在使用過(guò)程中應(yīng)清潔密封或粘合的表面,以去除表面的雜質(zhì)和油漬。等待污染物以獲得預(yù)期的密封和粘合效果;3.固化:需要用紫外線或可見光照射到達(dá)粘合層并具有適當(dāng)波長(zhǎng)的光。時(shí)間取決于燈的強(qiáng)度和光距離,一般的照明時(shí)間是固定時(shí)間的六倍;4.粘接某些對(duì)溫度敏感的材料時(shí),需要將其冷卻后再使用;5.可以用適當(dāng)?shù)挠袡C(jī)溶劑去除未固化的粘合劑。6.承受負(fù)載之前,必須將粘合的零件...
11-25
制樣機(jī)是指可以制作各種規(guī)格的力學(xué)拉伸試樣條,采用全自動(dòng)CNC數(shù)控系統(tǒng)控制,操作簡(jiǎn)便,自動(dòng)切割樣條,切割精度高,速度快,制作的試樣形狀不受機(jī)器限制,只要提供程序,可以制作各種形狀的試樣,條形、啞鈴型、圓形、各種不規(guī)則圖形等;主要用途用于鋁合金、銅等有色金屬材料及橡膠塑料、玻璃鋼、塑料、纖維板、有機(jī)玻璃、增強(qiáng)玻璃纖維板、特殊復(fù)合等材料,也可以用于材料粉末取樣等作用;通過(guò)程序控制器控制三軸聯(lián)動(dòng)系統(tǒng),實(shí)現(xiàn)金屬或者非金屬板材的樣條切割、啞鈴型試樣切割、沖擊缺口切割功能,并可以將任意形狀...
11-20
具有可控和可調(diào)節(jié)表面化學(xué)性質(zhì)的清潔表面對(duì)于改善材料的界面,生物和電子性能,以獲得Zjia的設(shè)備和結(jié)構(gòu)性能至關(guān)重要。等離子體表面處理可去除納米級(jí)有機(jī)污染物,并在不影響整體材料的情況下改變表面化學(xué)性質(zhì)。等離子清洗的好處等離子體清潔是通過(guò)化學(xué)反應(yīng)(O2或空氣等離子體)或物理消融(Ar等離子體)去除有機(jī)污染物。等離子體處理還在表面上引入了化學(xué)官能團(tuán)(羰基,羧基,羥基),使大多數(shù)表面具有親水性,水接觸角的減小和潤(rùn)濕性的提高。清潔且親水的表面通常對(duì)于促進(jìn)附著力和增強(qiáng)與其他表面的粘合至關(guān)重...
11-20
硅的各向異性濕法腐蝕是一種常用的制造微機(jī)械結(jié)構(gòu)的體硅微加工技術(shù),因?yàn)槠鋵?shí)現(xiàn)相對(duì)容易,成本也相對(duì)低廉。而且,在大多數(shù)工藝中不需要消耗電力資源。在這一過(guò)程中,其反應(yīng)為:Si+4H2O-Si(OH)4+2H2氫氧根離子沒有明確出現(xiàn)在反應(yīng)中,但它十分重要,因?yàn)樗呋磻?yīng)并確保Si(OH)4產(chǎn)物在溶液中的溶解度。腐蝕的速率取決于溫度、蝕刻劑組成和表面的晶體學(xué)取向關(guān)系。值得注意的是,因?yàn)檫@種反應(yīng)只涉及到化學(xué)反應(yīng),當(dāng)半導(dǎo)體的電位被外部電源改變使,它的反應(yīng)速率卻不受影響。各向異性所有堿性蝕刻...
11-16
ICP/RIE蝕刻應(yīng)用范圍:-Si,SiO2,SiN蝕刻工藝-Al,Cr,Ti,TiW,Au,Mo等金屬蝕刻工藝-晶圓尺寸:一片,4英寸,6英寸晶圓RIE等離子刻蝕案例:SiO2/SiN蝕刻80sccmCF4,均勻性幾種功率水平下的壓力與蝕刻速率(如下圖):PlasmaSTAR®系列等離子處理系統(tǒng)適合處理所有的材料,擁有模塊化腔室和電極配置,可滿足不同的等離子工藝和基片尺寸。占地面積小,觸摸屏計(jì)算機(jī)控制,多級(jí)程序控制和組件控制,操作簡(jiǎn)單。用于研究、工藝開發(fā)和批量生產(chǎn),...
11-16
“納米壓印技術(shù)”展示了通過(guò)在溫度和壓力控制的印刷過(guò)程中使熱塑性材料物理變形來(lái)執(zhí)行低于100nm平行光刻的能力。使用通過(guò)電子束光刻和干刻蝕圖案化的硅壓模來(lái)實(shí)現(xiàn)。這項(xiàng)技術(shù)的優(yōu)點(diǎn)在于,可使用具有納米圖案的硅“母版”,進(jìn)行成千上萬(wàn)次復(fù)制,從而降低成本并提高產(chǎn)量,用于半導(dǎo)體工藝中的開發(fā)個(gè)研究。包含的技術(shù):熱壓印、UV紫外壓印、微米結(jié)構(gòu)壓?。?micro;CP)、卷對(duì)卷壓印和注塑成型等。典型的基材材料:硅,熔融石英,III-V材料和聚合物材料等。典型的壓印聚合物:PMMA,COC,COP...
11-16
結(jié)合使用等離子處理和旋涂,研究人員可以獲得具有更高穩(wěn)定性和性能的均勻材料涂層。等離子體處理通過(guò)引入含有親水性氧的官能團(tuán)來(lái)改變表面化學(xué)性質(zhì)。極性基團(tuán)使基材可潤(rùn)濕,并且能夠更好地與水溶液相互作用。等離子處理促進(jìn)了粘附力并在基材上平滑鋪展。旋涂設(shè)備利用離心力來(lái)產(chǎn)生水平,均勻的薄膜和涂層。通過(guò)試驗(yàn)轉(zhuǎn)速和加速度,研究人員可以JINQUE地確定特定的膜厚。旋涂可改善設(shè)備質(zhì)量和專業(yè)外觀。這些工具可以無(wú)縫地協(xié)同工作,以在各種基材上提供均勻的膜和涂層。在許多應(yīng)用中,一致的涂層特性可提高穩(wěn)定性和...
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