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紫外固化機(jī)的使用方法：1.該產(chǎn)品對(duì)光敏感。在儲(chǔ)存和操作過(guò)程中，有必要控制對(duì)各種光源的照射，例如日光，紫外線和其他人造光源；2.在使用過(guò)程中應(yīng)清潔密封或粘合的表面，以去除表面的雜質(zhì)和油漬。等待污染物以獲得預(yù)期的密封和粘合效果；3.固化：需要用紫外線或可見光照射到達(dá)粘合層并具有適當(dāng)波長(zhǎng)的光。時(shí)間取決于燈的強(qiáng)度和光距離，一般的照明時(shí)間是固定時(shí)間的六倍；4.粘接某些對(duì)溫度敏感的材料時(shí)，需要將其冷卻后再使用；5.可以用適當(dāng)?shù)挠袡C(jī)溶劑去除未固化的粘合劑。6.承受負(fù)載之前，必須將粘合的零件...

制樣機(jī)是指可以制作各種規(guī)格的力學(xué)拉伸試樣條，采用全自動(dòng)CNC數(shù)控系統(tǒng)控制，操作簡(jiǎn)便，自動(dòng)切割樣條，切割精度高，速度快，制作的試樣形狀不受機(jī)器限制，只要提供程序，可以制作各種形狀的試樣，條形、啞鈴型、圓形、各種不規(guī)則圖形等；主要用途用于鋁合金、銅等有色金屬材料及橡膠塑料、玻璃鋼、塑料、纖維板、有機(jī)玻璃、增強(qiáng)玻璃纖維板、特殊復(fù)合等材料，也可以用于材料粉末取樣等作用；通過(guò)程序控制器控制三軸聯(lián)動(dòng)系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)金屬或者非金屬板材的樣條切割、啞鈴型試樣切割、沖擊缺口切割功能，并可以將任意形狀...

具有可控和可調(diào)節(jié)表面化學(xué)性質(zhì)的清潔表面對(duì)于改善材料的界面，生物和電子性能，以獲得Zjia的設(shè)備和結(jié)構(gòu)性能至關(guān)重要。等離子體表面處理可去除納米級(jí)有機(jī)污染物，并在不影響整體材料的情況下改變表面化學(xué)性質(zhì)。等離子清洗的好處等離子體清潔是通過(guò)化學(xué)反應(yīng)（O2或空氣等離子體）或物理消融（Ar等離子體）去除有機(jī)污染物。等離子體處理還在表面上引入了化學(xué)官能團(tuán)（羰基，羧基，羥基），使大多數(shù)表面具有親水性，水接觸角的減小和潤(rùn)濕性的提高。清潔且親水的表面通常對(duì)于促進(jìn)附著力和增強(qiáng)與其他表面的粘合至關(guān)重...

硅的各向異性濕法腐蝕是一種常用的制造微機(jī)械結(jié)構(gòu)的體硅微加工技術(shù)，因?yàn)槠鋵?shí)現(xiàn)相對(duì)容易，成本也相對(duì)低廉。而且，在大多數(shù)工藝中不需要消耗電力資源。在這一過(guò)程中，其反應(yīng)為：Si+4H2O-Si(OH)4+2H2氫氧根離子沒有明確出現(xiàn)在反應(yīng)中，但它十分重要，因?yàn)樗呋磻?yīng)并確保Si(OH)4產(chǎn)物在溶液中的溶解度。腐蝕的速率取決于溫度、蝕刻劑組成和表面的晶體學(xué)取向關(guān)系。值得注意的是，因?yàn)檫@種反應(yīng)只涉及到化學(xué)反應(yīng)，當(dāng)半導(dǎo)體的電位被外部電源改變使，它的反應(yīng)速率卻不受影響。各向異性所有堿性蝕刻...

ICP/RIE蝕刻應(yīng)用范圍：-Si，SiO2，SiN蝕刻工藝-Al，Cr，Ti，TiW，Au，Mo等金屬蝕刻工藝-晶圓尺寸：一片，4英寸，6英寸晶圓RIE等離子刻蝕案例：SiO2/SiN蝕刻80sccmCF4，均勻性幾種功率水平下的壓力與蝕刻速率（如下圖）：PlasmaSTAR®系列等離子處理系統(tǒng)適合處理所有的材料，擁有模塊化腔室和電極配置，可滿足不同的等離子工藝和基片尺寸。占地面積小，觸摸屏計(jì)算機(jī)控制，多級(jí)程序控制和組件控制，操作簡(jiǎn)單。用于研究、工藝開發(fā)和批量生產(chǎn)，...

“納米壓印技術(shù)”展示了通過(guò)在溫度和壓力控制的印刷過(guò)程中使熱塑性材料物理變形來(lái)執(zhí)行低于100nm平行光刻的能力。使用通過(guò)電子束光刻和干刻蝕圖案化的硅壓模來(lái)實(shí)現(xiàn)。這項(xiàng)技術(shù)的優(yōu)點(diǎn)在于，可使用具有納米圖案的硅“母版”，進(jìn)行成千上萬(wàn)次復(fù)制，從而降低成本并提高產(chǎn)量，用于半導(dǎo)體工藝中的開發(fā)個(gè)研究。包含的技術(shù)：熱壓印、UV紫外壓印、微米結(jié)構(gòu)壓?。?micro;CP）、卷對(duì)卷壓印和注塑成型等。典型的基材材料：硅，熔融石英，III-V材料和聚合物材料等。典型的壓印聚合物：PMMA，COC，COP...

結(jié)合使用等離子處理和旋涂，研究人員可以獲得具有更高穩(wěn)定性和性能的均勻材料涂層。等離子體處理通過(guò)引入含有親水性氧的官能團(tuán)來(lái)改變表面化學(xué)性質(zhì)。極性基團(tuán)使基材可潤(rùn)濕，并且能夠更好地與水溶液相互作用。等離子處理促進(jìn)了粘附力并在基材上平滑鋪展。旋涂設(shè)備利用離心力來(lái)產(chǎn)生水平，均勻的薄膜和涂層。通過(guò)試驗(yàn)轉(zhuǎn)速和加速度，研究人員可以JINQUE地確定特定的膜厚。旋涂可改善設(shè)備質(zhì)量和專業(yè)外觀。這些工具可以無(wú)縫地協(xié)同工作，以在各種基材上提供均勻的膜和涂層。在許多應(yīng)用中，一致的涂層特性可提高穩(wěn)定性和...